該裝置是一種用于電子顯微鏡觀察的鋨鍍膜裝置。配備觸摸屏和定序器控制，任何人都可以輕松地全自動在樣品上進行導電膜沉積。采用空心陰極樣品臺，采用低壓放電進行鍍膜，對樣品幾乎無損傷。由于空心陰極內(nèi)部產(chǎn)生均勻的高密度等離子體，因此無論樣品的高度或材料如何，放置在圓柱體內(nèi)的樣品表面都會形成均勻厚度的Os膜。由于僅將所需量的鋨氣體注入空心陰極，因此消耗較低，并且未反應的氣體被活性炭捕集器吸附和去除，抑制了有害氣體釋放到大氣中。

目的
用于 SEM 和 TEM 的鋨鍍膜設(shè)備。由于其細小的粒徑和出色的環(huán)繞特性，它對于高倍觀察目的和復雜形狀的樣品非常有效。超薄 Os 導電涂層還使其適用于 EBSD 分析、俄歇分析和 X 射線分析。